Gr1 Gr2 Gr5 ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹ

1. ہدف کا مواد

ٹارگٹ میٹریل وہ ٹارگٹ میٹریل ہے جس پر تیز رفتار چارج شدہ ذرات سے بمباری کی جاتی ہے۔ دھاتیں، مرکب دھاتیں، آکسائیڈ وغیرہ ہیں۔ مختلف ٹارگٹ میٹریلز (جیسے ایلومینیم، کاپر، سٹینلیس سٹیل، ٹائٹینیم، نکل ٹارگٹ وغیرہ) کو تبدیل کریں، آپ مختلف فلم سسٹم حاصل کر سکتے ہیں (جیسے کہ انتہائی سخت، لباس مزاحم، مخالف سنکنرن مرکب فلم، وغیرہ).

(1) دھاتی اہداف: نکل ہدف، نی، ٹائٹینیم ہدف، Ti، زنک ہدف، Zn، کرومیم ہدف، Cr، میگنیشیم ہدف، Mg، niobium ہدف، Nb، ٹن ہدف، Sn، ایلومینیم ہدف، ال، انڈیم ہدف، میں ، آئرن ٹارگٹ، Fe، زرکونیم ایلومینیم ٹارگٹ، ZrAl، ٹائٹینیم ایلومینیم ٹارگٹ، TiAl، زرکونیم ٹارگٹ، Zr، ایلومینیم سلکان ٹارگٹ، AlSi، سلکان ٹارگٹ، Si، copper target Cu، tantalum target T، a، جرمینیم ٹارگٹ، Ge، سلور ہدف، Ag، کوبالٹ ہدف، Co، سونے کا ہدف، Au، gadolinium ہدف، Gd، lanthanum ہدف، La، yttrium ہدف، Y، cerium ہدف، Ce، ٹنگسٹن ہدف، w، سٹینلیس سٹیل کا ہدف، نکل کرومیم ہدف، NiCr hafnium Target, Hf, molybdenum target, Mo, iron-nickel target, FeNi, tungsten target, W, وغیرہ۔

(2) سیرامک ​​اہداف: آئی ٹی او ہدف، میگنیشیم آکسائیڈ ہدف، آئرن آکسائیڈ ہدف، سلکان نائٹرائڈ ہدف، سلکان کاربائیڈ ہدف، ٹائٹینیم نائٹرائڈ ہدف، کرومیم آکسائیڈ ہدف، زنک آکسائیڈ ہدف، زنک سلفائیڈ ہدف، سلکان ڈائی آکسائیڈ ہدف، ایک سلیکن آکسائیڈ ہدف، سیریم آکسائیڈ ٹارگٹ، زرکونیم ڈائی آکسائیڈ ٹارگٹ، نیوبیم پینٹ آکسائیڈ ٹارگٹ، ٹائٹینیم ڈائی آکسائیڈ ٹارگٹ، زرکونیم ڈائی آکسائیڈ ٹارگٹ، ہفنیم ڈائی آکسائیڈ ٹارگٹ، ٹائٹینیم ڈائی آکسائیڈ ٹارگٹ، زرکونیم ڈائیبورائیڈ ٹارگٹ، ٹنگسٹن ٹرائی آکسائیڈ ٹارگٹ، ایلومینیم آکسائیڈ ٹارگٹ، ٹینٹلیم ڈائی آکسائیڈ ہدف ، یٹریئم فلورائیڈ ہدف، زنک سیلینائیڈ ہدف، ایلومینیم نائٹرائڈ ہدف، سلکان نائٹرائڈ ہدف، بوران نائٹرائڈ ہدف، ٹائٹینیم نائٹرائڈ ہدف، سلکان کاربائیڈ ہدف، لیتھیم نائوبیٹ ہدف، پراسیوڈیمیم ٹائٹینیٹ ہدف، بیریم ٹائٹینیٹ ہدف، لینتھنائیڈ ٹائٹنائٹ ہدف ہدف، وغیرہ

2. ہدف کی اہم کارکردگی کی ضروریات

(1) طہارت

پاکیزگی ہدف کی کارکردگی کے اہم اشاریوں میں سے ایک ہے، کیونکہ ہدف کی پاکیزگی فلم کی کارکردگی پر بہت زیادہ اثر انداز ہوتی ہے۔ تاہم، عملی ایپلی کیشنز میں، ہدف کے مواد کی پاکیزگی کی ضروریات بھی مختلف ہیں. مثال کے طور پر، مائیکرو الیکٹرانکس انڈسٹری کی تیز رفتار ترقی کے ساتھ، سلیکون ویفرز کا سائز 6"، 8" سے بڑھ کر 12" ہو گیا ہے، اور وائرنگ کی چوڑائی 0.5um سے گھٹ کر 0 ہو گئی ہے۔ .25um، 0.18um یا یہاں تک کہ 0.13um، 99.995% کا پچھلا ہدف 0.35umIC کی تکنیکی ضروریات کو پورا کر سکتا ہے، اور 0 کی تیاری .18um لائنوں کو ہدف کی پاکیزگی کے لیے 99.999% یا اس سے بھی 99.9999% درکار ہے۔

(2) نجاست کا مواد

ٹارگٹ ٹھوس اور چھیدوں میں آکسیجن اور پانی کے بخارات میں موجود نجاست جمع فلم کے لیے آلودگی کا بنیادی ذریعہ ہیں۔ مختلف اہداف میں مختلف ناپاک مواد کے لیے مختلف تقاضے ہوتے ہیں۔ مثال کے طور پر، سیمی کنڈکٹر انڈسٹری میں استعمال ہونے والے خالص ایلومینیم اور ایلومینیم کھوٹ کے اہداف میں الکلی دھاتی مواد اور تابکار عنصر کے مواد کے لیے خصوصی تقاضے ہوتے ہیں۔

(3) کثافت

ہدف کے ٹھوس حصوں میں چھیدوں کو کم کرنے اور پھٹی ہوئی فلم کی کارکردگی کو بہتر بنانے کے لیے، ہدف کو عام طور پر زیادہ کثافت کی ضرورت ہوتی ہے۔ ہدف کی کثافت نہ صرف اسپٹرنگ کی شرح کو متاثر کرتی ہے بلکہ فلم کی برقی اور نظری خصوصیات کو بھی متاثر کرتی ہے۔ ہدف کی کثافت جتنی زیادہ ہوگی، فلم کی کارکردگی اتنی ہی بہتر ہوگی۔ اس کے علاوہ، ہدف کی کثافت اور طاقت میں اضافہ ہدف کو تھوکنے کے دوران تھرمل تناؤ کو بہتر طریقے سے برداشت کرنے کی اجازت دیتا ہے۔ کثافت بھی ہدف کے اہم کارکردگی کے اشارے میں سے ایک ہے۔

(4) اناج کا سائز اور اناج کے سائز کی تقسیم

ہدف کا مواد عام طور پر پولی کرسٹل لائن ہوتا ہے، اور اناج کا سائز مائکرون سے ملی میٹر تک ہو سکتا ہے۔ اسی ٹارگٹ میٹریل کے لیے، باریک دانوں والے ہدف کے پھٹنے کی شرح موٹے دانوں والے ہدف سے زیادہ تیز ہے۔ اناج کے سائز (یکساں تقسیم) میں ایک چھوٹے سے فرق کے ساتھ ہدف کو پھوڑنے سے جمع ہونے والی فلم کی موٹائی زیادہ یکساں ہوتی ہے۔

3. مواد

(1) خالص ٹائٹینیم: GR1 GR2

(2) ٹائٹینیم مرکب: Gr5 ٹائٹینیم، ٹائٹینیم ایلومینیم TiAl، ٹائٹینیم نکل TiNi، ٹائٹینیم کرومیم TiCr، ٹائٹینیم زرکونیم TiZr، تانبے ٹائٹینیم TiCu وغیرہ۔

(3)دیگر مواد: زرکونیم سپٹرنگ اہداف، کروم سپٹرنگ اہداف، ٹنگسٹن سپٹرنگ اہداف، کاپر سپٹرنگ اہداف وغیرہ۔

4. مقصد

یہ الیکٹرانکس کی صنعت میں آرائشی ملعمع کاری، لباس مزاحم کوٹنگز، سی ڈیز اور وی سی ڈی کے ساتھ ساتھ مختلف مقناطیسی ڈسک کوٹنگز میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتا ہے۔

Tungsten-titanium (W-Ti) فلمیں اور tungsten-titanium (W-Ti) پر مبنی الائے فلمیں اعلی درجہ حرارت والی الائے فلمیں ہیں جن میں ناقابل تبدیل بہترین خصوصیات ہیں۔ ٹنگسٹن میں خصوصیات ہیں جیسے اعلی پگھلنے کا نقطہ، اعلی طاقت اور تھرمل توسیع کا کم گتانک۔ W/TI کھوٹ میں کم مزاحمت کا گتانک، اچھا تھرمل استحکام اور آکسیکرن مزاحمت ہے۔ جیسے کہ مختلف آلات کے لیے دھاتی وائرنگ کی ضرورت ہوتی ہے جو ایک سازگار کردار ادا کرتی ہے، جیسے کہ Al، Cu، اور Ag کا وسیع پیمانے پر استعمال اور تحقیق کی گئی ہے۔ تاہم، وائرنگ دھات بذات خود آسانی سے آکسائڈائز ہو جاتی ہے، ارد گرد کے ماحول کے ساتھ رد عمل ظاہر کرتی ہے، اور ڈائی الیکٹرک تہہ سے ناقص چپکتی ہے۔ Si اور SiO2 جیسے آلات کے سبسٹریٹ مواد میں پھیلانا آسان ہے، اور یہ کم درجہ حرارت پر دھات اور Si بنائے گا۔ مرکبات، جو کہ نجاست کے طور پر کام کرتے ہیں، آلے کی کارکردگی کو بہت خراب کرتے ہیں۔ مستحکم تھرمو مکینیکل خصوصیات، کم الیکٹران کی نقل و حرکت، اعلی سنکنرن مزاحمت اور کیمیائی استحکام کی وجہ سے W-Ti الائے کو وائرنگ ڈفیوژن بیریئر کے طور پر استعمال کرنا آسان ہے، خاص طور پر اعلی کرنٹ اور اعلی درجہ حرارت والے ماحول میں استعمال کے لیے موزوں ہے۔

تفصیلی تصاویر

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: gr1 gr2 gr5 ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹ، چین، مینوفیکچررز، سپلائرز، فیکٹری، اپنی مرضی کے مطابق، کم قیمت، اسٹاک میں، چین میں بنا